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2025-07
星期 六
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c级无尘室技术要求，空气过滤系统：通常采用初效、中效、高效三级过滤系统，高效过滤器（HEPA）的过滤效率需达到99.97%以上，以去除空气中的尘埃粒子和微生物。气流组织：一般采用非单向流（紊流）气流组织形式，通过合理布置送风口和回
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2025-07
星期 六
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电子行业净化工程特点，半导体制造需ISO1-3级超净环境，控制0.1μm微粒。晶圆厂采用FFU（风机过滤单元）层流系统，地板承重达1吨/㎡以上，防静电EPOXY地坪电阻值需在10^6-10^9Ω。AMC（气态分子污染物）控制要求p
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2025-07
星期 六
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净化工程在电子工业中的具体应用如下：半导体芯片制造芯片光刻：光刻工艺是芯片制造的关键步骤，需要极高的精度。在光刻过程中，哪怕微小的颗粒污染都可能导致芯片图案失真或缺陷，因此需要在高洁净度的环境中进行。一般要求光刻车间的洁净度达到I
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2025-07
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10万级净化工程的设计施工是一个复杂的过程，了解净化工程的使用目的、生产工艺、人员和设备数量、未来发展规划等，以便确定净化工程的规模、布局和各项技术参数。平面布局设计：根据生产流程和工艺要求，合理划分洁净区、缓冲区、辅助区等功能区
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2025-07
星期 六
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无尘车间的分类-按气流组织形式划分从气流组织形式角度，无尘车间主要分为单向流无尘车间和非单向流无尘车间。单向流无尘车间，又称为层流无尘车间，其气流以均匀的速度和单一的方向流动，就像一层一层的空气在车间内平行移动，能够迅速将尘埃粒子
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