1.前处理:晶圆清洗、去氧化层、活化表面。
2.装载:将晶圆固定于旋转载具,浸入镀液。
3.电镀:
施加电流,金属离子在晶圆表面还原沉积。
旋转载具确保镀液流动均匀,消除厚度差异。
4.后处理:镀层退火、清洗、干燥。
1.高均匀性:
旋转+喷淋设计减少“边缘增厚”现象,镀层均匀性达±5%以内。
2.精密控制:电流密度精度:±1 mA/cm²;温度波动:±0.5℃。
3.洁净度保障:设备内建HEPA过滤系统,满足Class 1000以下洁净环境。
4.高效生产:支持多片晶圆同时处理(如6片/批次),UPH(每小时产量)可达50~100片。
1.先进封装:2.5D/3D IC的TSV镀铜、Fan-Out封装中的RDL金属化。
2.功率器件:IGBT、MOSFET背面金属化(镀银、镀镍)。
3.传感器与MEMS:微结构表面镀金,提升电气性能与可靠性。 连续镀生产线的导电辊镀覆耐磨碳钨涂层,降低钢带传输摩擦,避免划伤与镀层缺陷。上海电镀设备厂家直销
原理 涂料粒子电泳沉积(有机涂层) 金属离子电解沉积(金属镀层)
涂层材料 水性树脂涂料(有机物) 金属或合金(如锌、镍、铬、金等) 主要功能 防腐、装饰、绝缘(非金属涂层) 防腐、装饰、导电、耐磨(金属镀层) 工件导电性 金属工件直接导电;塑料需导电处理 必须导电(金属或导电化处理的非金属)典型应用 汽车底漆、家电外壳 五金电镀、电子元件镀贵金属
电泳生产线是通过电场作用实现高效、均匀涂装的自动化设备,优势在于环保、高防腐性和复杂工件适应性,广泛应用于汽车、家电等对涂层质量要求高的领域。其工艺流程涵盖前处理、电泳涂装、后处理及自动化控制,是现代工业规模化生产的重要组成部分。 上海电镀设备厂家直销废气处理设备配套槽边吸气罩与洗涤塔,中和电镀过程中挥发的酸碱废气,符合环保排放要求。
小型电镀设备是一种专为小规模生产、定制化需求或实验研发设计的紧凑型电镀装置。与传统大型电镀生产线相比,它体积小、操作灵活,兼具高效性与经济性,尤其适合中小企业、实验室、工作室或个性化产品加工场景:
1. 特点体积小巧:占地面积通常为2-5平方米,可轻松适配车间角落或实验室环境。
模块化设计:支持快速更换镀槽、电源和过滤系统,兼容镀金、镀银、镀镍、镀锌等多种工艺。
操作简便:采用一键式参数设置(如电流、时间、温度),无需复杂培训即可上手。
低能耗运行:小容量槽液设计减少化学试剂消耗,搭配节能电源,降低综合成本。
2. 典型应用场景小批量生产:如首饰加工、手表配件、工艺品等个性化订单的镀层处理。
研发测试:新材料(如钛合金、塑料电镀)的工艺验证,或镀液配方优化实验。
维修翻新:汽车零部件、电子元器件的局部修复电镀,避免大规模返工。
教育领域:高校或职业院校用于电镀原理教学与实操培训。
3. 优势低成本投入
对比项 传统滚镀 半导体滚镀 对象 小型金属零件(螺丝、纽扣等) 晶圆、芯片、微型半导体元件 精度 微米级 纳米级(≤100nm) 洁净度 普通工业环境 无尘室(Class100~1000) 工艺控制 电流/时间粗调 实时闭环控制(电流、流量、温度) 镀液类型 酸性/碱性镀液 高纯度镀液(低杂质)
大尺寸晶圆兼容:适配12英寸(300mm)晶圆,向18英寸过渡。环保镀液:无物、低毒配方,减少废水处理压力。智能化集成:AI工艺优化:通过机器学习预测镀层缺陷。与CMP(化学机械抛光)、PVD设备联动,形成全自动金属化产线
半导体滚镀设备是封装与芯片制造的关键装备,通过精密旋转与镀液控制,实现纳米级金属镀层的均匀沉积。其技术在于洁净环境下的高精度工艺控制 无氰镀锌设备使用锌酸盐络合剂替代。
主要体现在某些特定的电镀工艺(如真空电镀或物相沉积)中,真空机为电镀过程提供必要的真空环境,从而提升镀层质量。以下是两者的具体关联及协同作用:
避免氧化与污染:真空环境可排除空气中的氧气、水蒸气和其他杂质,防止镀层氧化或污染,提高金属镀层的纯度。
增强附着力:在低压条件下,金属粒子动能更高,能更紧密地附着在基材表面,提升镀层的结合强度。
均匀性与致密性:真空环境减少气体分子干扰,使金属沉积更均匀,形成致密、无缺陷的镀层。
真空电镀(物相沉积,PVD):工艺过程:通过真空机将腔室抽至低压(如10⁻³至10⁻⁶ Pa),利用溅射、蒸发或离子镀等技术,将金属材料气化并沉积到工件表面。典型应用:手表、首饰、手机外壳的金属镀层,以及工具、刀具的耐磨涂层。
化学气相沉积(CVD):工艺特点:在真空或低压环境中,通过化学反应在基材表面生成固态镀层(如金刚石涂层或氮化钛),常用于半导体或精密器件。
应用领域
电子工业:半导体元件、电路板的金属化镀层。
汽车与航天:发动机部件、涡轮叶片的耐高温涂层。
消费品:眼镜框、手机中框的装饰性镀膜。 自动化电镀线的机器人上下料系统,通过视觉识别定位工件,实现高精度无人化操作。防爆型电镀设备配件
汽车轮毂电镀设备配置多轴旋转挂具,360 度无死角电镀,满足复杂曲面的均匀镀层要求。上海电镀设备厂家直销
是一种于半导体制造中金属化工艺的精密设备,主要用于在半导体晶圆、芯片或微型元件表面沉积均匀的金属镀层。其在于通过可控的电化学或化学镀工艺,实现高精度、高一致性的金属覆盖,满足集成电路封装、先进封装及微机电系统等领域的特定需求
与传统滚镀不同,半导体滚镀更注重工艺洁净度、镀层精度及与半导体材料的兼容性。
1.金属互连:在晶圆上形成铜导线。
2.凸块制备:沉积锡、铜、金等材料,用于芯片与基板的电气连接。
3.阻挡层/种子层镀覆:镀钛、钽等材料,防止金属扩散并增强附着力。
1.电镀槽:
材质:耐腐蚀材料,避免污染镀液
镀液循环系统:维持镀液成分均匀,过滤颗粒杂质
2.旋转载具:
晶圆固定装置:真空吸附或机械夹持,确保晶圆平稳旋转
转速控制:通过伺服电机调节转速,优化镀层均匀性
3.阳极系统:
可溶性/不溶性阳极:铜、铂等材料,依镀层需求选择
阳极位置调节:控制电场分布,减少边缘效应
4.供液与喷淋系统:
多点喷淋头:均匀分配镀液至晶圆表面,避免气泡滞留
流量控制:精确调节镀液流速,匹配不同工艺需求
5.控制系统:
PLC/工控机:集成温度、pH值、电流密度等参数监测与反馈。
配方管理:存储不同镀层的工艺参数 上海电镀设备厂家直销
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